废气泉源：：电子元件和光伏等制造时，，切割液溶剂挥发、、粘结历程胶水溶剂挥发、、油墨、、涂料等物料调配历程中溶剂挥发、、烧结历程溶剂挥发、、印刷历程浆料、、油墨溶剂挥发、、涂装历程涂料溶剂挥发、、清洁洗濯溶剂挥发、、注塑历程注塑废气等。
。光电显示器件的阵列、、彩膜、、成盒、、模组等生产工序爆发的酸性、、碱性、、有机废气及含氟废气等；；集成电路制造的掺杂、、光刻、、刻蚀和薄膜生产工艺爆发的酸性、、碱性、、砷烷、、磷烷、、有机废气；；

废气组分：：聚乙二醇、、甲苯、、二甲苯、、松油醇、、乙醇、、异丙醇、、丁醇、、丙醇、、丁酮、、醋酸乙酯、、醋酸丁酯、、酯类、、醇类、、甲醛、、异丙醇、、丙烯腈、、苯乙烯、、非甲烷总烃等。
。磷酸、、乙酸、、硝酸、、盐酸、、氮氧化物、、氟化物、、硫酸、、氯气、、氢氧化钾、、氨等；；粉尘、、NOx、、NF3、、C2F6、、CF4、、C3F8、、CHF3、、SF6等氟化物；；苯、、醇、、烷烃、、醚、、酮、、酯类；；硅烷、、磷烷、、砷烷等；；

废气特点：：风量大、、污染物浓度易波动、、因素重大、、部分有侵蚀性；；

治理工艺：：酸碱废气（湿式洗涤吸收）；；高浓度有机废气（RTO/CO/RCO/TO）；；低浓度有机废气（“预处理+沸石转轮吸附浓缩-RTO”、、“预处理+牢靠床活性炭或分子筛沸石吸附浓缩-CO”、、“吸收+光催化”、、“吸收+吸附”、、“吸附”等组合工艺；；

排放限值：：NMHC及其它指标详见《大气污染物综合排放标准》、、《挥发性有机物无组织排放控制标准》或各地地标。
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yh0612cc银河装备拥有应用于该行业相关的自主知识产权：：21项

泛半导体项目展示

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